Machine Learning-based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes - Oluwatobi Adeleke

٤٠٩٫٠٠ ر.س.‏
+ ١٠٤٫٤٩ ر.س.‏ الشحن

Machine Learning-based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes - Oluwatobi Adeleke

البائع:
  • product image

٤٠٩٫٠٠ ر.س.‏

في المخزون
+ ١٠٤٫٤٩ ر.س.‏ الشحن

سياسة الإرجاع لمدة 14 يوما

طرق الدفع:

  • العلامة التجارية: Unbranded
تفاصيل المنتج

تفاصيل المنتج

Machine Learning-based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes - Oluwatobi Adeleke

This Book Describes The Application Of Machine Learning Modelling Approaches In Atomic Layer Deposition And Presents Detailed Information On Modelling, Optimization, And Prediction Of The Behaviour And Characteristics Of Ald For Improved Process Quality Control.
  • العلامة التجارية: Unbranded
  • الفئة: العلوم والطب والطبيعة
  • حَجْم: Paperback
  • اللغة: English
  • المؤلف: Oluwatobi Adeleke
  • عدد الصفحات: 378
  • تاريخ النشر: 2025-05-06
  • الناشر/ العنوان: Taylor & Francis Ltd
  • هوية Fruugo: 469656541-983610149
  • ISBN: 9781032386737
التوصيل

توصيل

يُرسل خلال 24 ساعة

  • STANDARD: ١٠٤٫٤٩ ر.س.‏ - التسليم بين الثلاثاء 17 نوفمبر 2026 – الثلاثاء 24 نوفمبر 2026

يُشحن من المملكة المتحدة.

الإرجاع

الإرجاع

نحن نبذل قصارى جهدنا لضمان أن تصلك المنتجات التي تطلبها بالكامل وطبقاً المواصفات التي حددتها. إلا أنه في حال تلقيك طلب غير كامل أو أغراض تختلف عن تلك التي طلبتها أو كان هناك سبب آخر يدعوك لعدم الرضاء عن الطلب، فيمكنك رد الطلب أو أي منتجات يتضمنها الطلب واسترداد ما دفعته من أجل تلك الأغراض بالكامل.

عرض سياسة الرد الكاملة